170 °C (340 °F) Cabello fino y dócil

Previene la producción excesiva de melanina y la formación de manchas y pecas

Contiene ingredientes de origen natural para hidratar y suavizar la piel

Citronellol

Galactomyces Ferment Filtrate Galactomyces Ferment Filtrate reduce el tamaño de los poros dilatados

Ultra - Thin Spot Cover Path Centella Asiática 170 °C (340 °F) CabelloEl parche ultrafino para cubrir imperfecciones de ANUA es una solucin discreta y eficaz para tratar imperfecciones individuales. Fabricado con un material hidrocoloide ultrafino, se adhiere perfectamente a la piel, protegiendo las imperfecciones de las impurezas externas y acelerando la curacin. Enriquecido con extracto de aloe vera, extracto de centella asitica, ceramida NP y colesterol, alivia la irritacin, mantiene la hidratacin y favorece la